পণ্য

বাড়ি > পণ্য > Al2O3 সিরামিক > Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

বিভাগসমূহ

অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড সিরামিক

(20)

ধাতব সিরামিক

(10)

যোগাযোগ

যোগাযোগ: Miss. Zhu

টেলিফোন: 17351500728

যোগাযোগ করুন

আমাদের মেইল করুন

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Name: Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-PS14
Price: 95.00 USD
Availability: InStock

পণ্যের বিবরণ

উৎপত্তি স্থল: জিয়াংসু, চীন

পরিচিতিমুলক নাম: Wuxi Special Ceramic

সাক্ষ্যদান: ISO 9001:2015

মডেল নম্বার: WS-AL-PS14

পেমেন্ট ও শিপিংয়ের শর্তাবলী

ন্যূনতম চাহিদার পরিমাণ: 10 টুকরা

মূল্য: US$10~US$180/Piece

প্যাকেজিং বিবরণ: ফেনা সন্নিবেশ সহ রপ্তানি-গ্রেড কার্টন, সমুদ্র বা বিমান মালবাহী জন্য প্যালেটাইজড

ডেলিভারি সময়: নিশ্চিতকরণের 15-30 দিন পরে

পরিশোধের শর্ত: টি/টি, এল/সি, ওয়েস্টার্ন ইউনিয়ন

যোগানের ক্ষমতা: প্রতি মাসে 100,000 টুকরা

সেরা দাম পান

পণ্যের বিবরণ

পণ্যের বর্ণনা

বিশেষভাবে তুলে ধরা: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                Polished Alumina Wafer Chuck, Mirror Finish Ceramic Part, Semiconductor Processing Equipment
                              

অ্যালুমিনা সামগ্রী:	99.5% Al2O3	সারফেস ফিনিশ:	আয়না পালিশ
পৃষ্ঠের রুক্ষতা:	Ra 0.02 um	বিশুদ্ধতা গ্রেড:	ভ্যাকুয়াম গ্রেড
ঘনত্ব:	3.92 গ্রাম/সেমি3	রঙ:	হাতির দাঁত
আবেদন:	অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণ সরঞ্জাম	সর্বোচ্চ ব্যবহার তাপমাত্রা:	1700 ডিগ্রী সে

অ্যালুমিনা সামগ্রী:	99.5% Al2O3
সারফেস ফিনিশ:	আয়না পালিশ
পৃষ্ঠের রুক্ষতা:	Ra 0.02 um
বিশুদ্ধতা গ্রেড:	ভ্যাকুয়াম গ্রেড
ঘনত্ব:	3.92 গ্রাম/সেমি3
রঙ:	হাতির দাঁত
আবেদন:	অর্ধপরিবাহী প্রক্রিয়াকরণ সরঞ্জাম
সর্বোচ্চ ব্যবহার তাপমাত্রা:	1700 ডিগ্রী সে

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the

Tags:

Al2O3 সিরামিক

স্টিটিট সিরামিকস

সিলিকন নাইট্রাইড সিরামিকস

জিরকোনিয়া সিরামিকস

সিরামিক বাষ্পীভবন নৌকা

সিলিকন কার্বাইড সিরামিকস

কর্ডিয়ারাইট সিরামিকস

মুলাইট সিরামিকস

সিরামিকস সাবস্ট্রেট

বোরন নাইট্রাইড সিরামিকস

সিরামিক শ্যাফট

সিরামিক অগ্রভাগ

জিরকোনিয়াম অক্সাইড সিরামিক

ম্যাকর সিরামিক

অর্ধপরিবাহী সিরামিকস

জিরকোনিয়া সিরামিক ফলক

Y2O3 পাউডার

অ্যালুমিনিয়াম নাইট্রাইড সিরামিক

ধাতব সিরামিক

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Polished Alumina Wafer Chuck

Mirror Finish Ceramic Part

Semiconductor Processing Equipment

অ্যালুমিনা সিরামিক প্লেট,

Al2o3 সিরামিক প্লেট,

Al2O3 সিরামিক

স্টিটিট সিরামিকস

সিলিকন নাইট্রাইড সিরামিকস

জিরকোনিয়া সিরামিকস

সিরামিক বাষ্পীভবন নৌকা

সিলিকন কার্বাইড সিরামিকস

কর্ডিয়ারাইট সিরামিকস